如今世界最先进的EUV光刻机,只有asml一家公司可以制造出来。
光刻机总共有三个核心部件,一是双工件台,二是EUV光源,三是EUV光学镜头,顾名思义,高能同步光源设备,是应用于EUV光源的设备。
据最新消息了解,清华大学已经和北京华卓精科合作,并且实现了65nm工艺光刻机需求的双工件台系统。
据央视报道,中科院高能物理研究院,创造出了中国首台高能同步辐射光源设备,此外,为这台光源设备提供技术支持的测试平台,也已经开始试运行。
光刻机主要包括:光源、投影物镜和工件台三个子系统及其他部件。其中,光源系统主要用来发射激光,投影物镜系统主要用来对光线进行精准聚焦,工件台主要用来承载硅片并根据光刻需求进行精密运动,其决定了光刻机的分辨率和生产效率。
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