近日，半导体巨头台积电披露其 2nm 先进制程芯片核心机密疑遭泄露，涉事的 9 名员工已被惩处，相关调查已进入司法程序。8 月 6 日，随着中国台湾地区高检署及多方信息披露，更多事件细节与调查进展浮出水面。

事件曝光，9 人涉案

台积电在 8 月 5 日的声明中表示，公司通过常规监控机制侦测到违规行为，经内部调查确认存在营业秘密泄露情况。此次事件共涉及 9 名员工，包括现任及前员工。

其中 3 人为台积电宝山 20 厂（2nm 试产基地）的试产人员，涉嫌利用手机拍摄大量 2nm 制程技术资料，并将信息流向日本半导体设备巨头东京电子（TEL）的员工。因证据确凿，这 3 人已被台积电直接开除，并移送司法机关处理。

另外 6 名涉事人员来自台积电研发中心，因向相关方提供 2nm 相关资料，但情节较轻且未发现集体泄密行为，已被调离原工作岗位，目前仍在接受进一步调查。

调查进展,现场抓获涉案人员

中国台湾地区最高法院检察署智慧财产检察分署透露，早在 7 月 25 日至 28 日，已针对台积电核心技术遭非法获取案启动调查，由检察官指挥调查局新竹市调查站等单位开展侦办工作。

期间，检方共搜索 6 处地点，包括东京电子在新竹科学园区的办公室，并拘提陈姓、吴姓等 6 名工程师到案。其中，陈姓男子为台积电前工程师，吴姓男子等 2 人为台积电现任工程师，3 人因涉案情节较重，已被批准羁押并禁止会见。

调查显示，陈姓前工程师从吴姓等 2 名现任工程师电脑中，分别拍摄了 700 余张及近 300 张制程技术照片；另有几位工程师提供了少量非核心制程图，因情节较轻未被羁押。更值得关注的是，1 名台积电工程师与 1 名某半导体设备大厂工程师，曾于 7 月在竹科星巴克相约翻拍机密资料，被检调单位当场抓获。

高检署表示，将深入调查涉案人员非法获取技术的动机、目的，厘清秘密是否进一步外流，并根据台积电受损情况依法从严追诉。

东京电子关联密切

此次泄密信息流向的东京电子，是全球第四大半导体设备制造商，同时为日本 2nm 制程研发企业 Rapidus 的股东，而 Rapidus 已启动 2nm 芯片试产。从技术布局看，东京电子在涂布显影、气体化学蚀刻等四类设备中市占率全球第一，在清洗、等离子蚀刻等四类设备中市占率第二，尤其在与阿斯麦 High-NA EUV 光刻机配套的高导向性等离子蚀刻设备上处于垄断地位，其探针台也是先进封装技术的关键设备。

作为当前半导体行业最前沿的制造工艺，2nm 芯片技术的竞争异常激烈。目前全球仅台积电、三星、英特尔及 Rapidus 仍在积极推进研发，其他厂商已陆续退出。在人工智能时代，先进芯片成为技术竞争的核心资源，台积电与三星等头部企业每年资本支出均超 300 亿美元，凸显该领域的战略重要性。

台积电回应

台积电在声明中强调，对任何违反营业秘密、损害公司利益的行为秉持零容忍态度，已对涉事人员严厉惩处并采取法律行动。由于案件进入司法程序，暂不便透露更多细节。

“我们将持续强化内部管理及监控机制，必要时与执法机构合作，全力保护核心竞争力及全体员工共同利益，确保营运稳定。” 台积电表示。

此次事件为半导体行业敲响警钟，在先进制程技术研发竞争日趋激烈的背景下，核心技术保密已成为企业维持竞争力的关键环节。目前，相关调查仍在进行中。

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